“‘섭씨 800도, 94% 이상 투과율, 편차 0.4% 이내’라는 꿈의 조건을 가능하게 하는 펠리클(웨이퍼의 포토마스크를 보호하는 얇은 막) 소재는 탄소나노튜브(CNT)가 유일합니다.” (김세훈 어썸레이 대표)

반도체 칩의 회로가 촘촘해지고, 극자외선(EUV) 노광 장비의 출력이 600W 이상으로 증가함에 따라 웨이퍼의 포토마스크를 오염물질로부터 보호하는 펠리클의 내구성이 날로 중요해지고 있다. 웨이퍼의 회로를 더 얇고 세밀하게 깎아낼 수 있는 도구에 따라 수율이 좌우되는 2나노 이하의 미세 공정에서는 선택이 아니라 필수 사항이 됐다는 평가다. 이 문제를 해결하기 위해 차세대 소재를 만드는 스타트업이 나섰다.

김세훈 어썸레이 대표는 지난 2일 서울 강남구 디캠프에서 진행된 서울경제신문과의 인터뷰에서 “지난달 CNT 소재로 포토마스크 전체를 덮을 수 있는 풀 사이즈(11㎝X14㎝)의 멤브레인(얇은 막)을 구현해냈다”며 “전세계적으로도 CNT 소재를 후처리해 이 사이즈의 필름으로 만드는 기업은 핀란드의 카나투(CANATU)를 제외하고는 없다”고 밝혔다.

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